为了提高镀膜质量和生产效率, 镀膜制造商一般会选择离子源进行辅助镀膜, 有利于:
1. 填充密度提高: 折射率提高
2. 波长漂移减少
3. 红外波段的水气吸收减少
4. 增强了膜层的结合力、耐摩擦能力, 机械强度, 提高表面光洁度
5. 控制膜层的应力
6. 减少膜层的吸收和散射
7. 提高生产效率
伯东公司代理的美国考夫曼公司 KRI 霍尔离子源EH5000F 已成功应用于光学镀膜中必须的辅助镀膜应用, 使得大尺寸光学镀膜机生产过程获得高生产良率.
KRI 霍尔离子源 EH5000F优点:
1. 高离子浓度 (High density), 低能量 (Low energy)
2. 离子束涵盖面积广 (high ion beam sharp)
3. 镀膜均匀性佳
4. 提高镀膜品质
5. 模块化设计,保养快速方便
6. 增加光学膜后折射率 (Optical index)
7. 全自动控制设计,超做简易
8. 低耗材成本
9. 安装简易
伯东公司为 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 美国考夫曼公司大中华总代理.
离子源发明人 Dr. Kaufman 考夫曼博士于1978年考夫曼博士在美国自行创立 Kaufman & Robinson, Inc. (KRi) 公司并历经30年离子源之改良及研发并取得多项专利, 目前已在光学镀膜 (Optical coating), IBAD (离子源助镀), IBSD (离子溅镀), IBE (离子刻蚀), DD (离子镀膜) 等等应用领域大量使用.
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯东版权所有, 翻拷必究！
