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伯东KRI无栅霍尔离子源eH 3000辅助镀制高质量光学薄膜

放大字体  缩小字体 发布日期:2020-12-14 14:47:24    浏览次数:17
导读

某大型工业薄膜制造商采用伯东 KRI 无栅霍尔离子源 eH 3000 辅助热蒸发技术镀制高质量光学薄膜, 以获得良好的机械性能和光学特性的薄膜, 同时获得与基体牢固结合和优良性能的高质量薄膜.其工作系统如下图:KRI霍尔离子源Gridless eH 3000最适合大型真空系统,与友厂大功率离子源对比, eH 3000是目前市场上最高效,提供最高离

某大型工业薄膜制造商采用伯东 KRI 无栅霍尔离子源 eH 3000 辅助热蒸发技术镀制高质量光学薄膜, 以获得良好的机械性能和光学特性的薄膜, 同时获得与基体牢固结合和优良性能的高质量薄膜.

 

其工作系统如下图:

 

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000最适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上最高效, 提供最高离子束流的离子源.

 

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:

离子源型号

 

霍尔离子源

eH3000
eH3000LO
eH3000MO

Cathode/Neutralizer

HC

电压

50-250V
50-300V
50-250V

电流

20A
10A
15A

散射角度

>45

可充气体

Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others

气体流量

5-100sccm

高度

6.0“

直径

9.7“

水冷

可选

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

 

该制造商的离子源辅助镀膜系统由霍尔离子源, 电源及控制系统和质量流量计 3 部分组成, 如下图:

其中霍尔离子源发射离子, 质量流量计向离子源提供气体并保证气流稳定, 电源及控制系统向离子源供电并保证放电参数放电电压及电流稳定.

 

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 运行结果:

1. 适用工业规模生产

2. 获得良好的机械性能和光学特性的薄膜

3. 获得与基体牢固结合和优良性能的高质量薄膜

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

 

http://www.cy315.com/file/upload/202012/14/144724794115.jpeg

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                    F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                  M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                   ec@hakuto.com.tw
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伯东版权所有, 翻拷必究!

 
(文/小编)
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