某刀具厂商为了增强刀具切削性能, 采用伯东 KRI 平行型考夫曼离子源 KDC 160 辅助沉积高铝超硬涂层.
其清洗工艺是采用 KRI 考夫曼离子源 KDC 160轰击处理基材表面, 以清洗基材, 工作示意图如下:
伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 技术参数：
|
离子源型号 |
离子源 KDC 160 |
|
Discharge |
DC 热离子 |
|
离子束流 |
>650 mA |
|
离子动能 |
100-1200 V |
|
栅极直径 |
16 cm Φ |
|
离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
2-30 sccm |
|
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型压力 |
< 0.5m Torr |
|
长度 |
25.2 cm |
|
直径 |
23.2 cm |
|
中和器 |
灯丝 |
* 可选: 可调角度的支架
其优势：
1. KRI 考夫曼离子源 KDC 160 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.
2. 离子束流: >650 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量 (Typical flow): 2-30 sccm.
3. 加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.
4. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.
5. 无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计.
KRI 考夫曼离子源 KDC 160运行结果：
1. KRI 考夫曼离子源 KDC 160辅助制备的 AlCrN 涂层的 CrN 相的结晶度明显提高
2.与传统清洗技术相比, KRI 考夫曼离子源 KDC 160清洗有利于涂层以平面方式生长, 细化晶粒, 涂层硬度从HV0.1 3200 提高到 HV0.1 3600.
3. KRI 考夫曼离子源 KDC 160轰击处理基材表面可提高膜基压应力, 抑制裂纹扩展, 基膜结合强度提高了 10N
4. 利用KRI 考夫曼离子源 KDC 160清洗制备的 AlTISiN 涂层, 摩擦系数均在 0.2 左右, 具有良好的排屑能力
5. 刀具寿命提高了约3倍
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯东版权所有, 翻拷必究!
