在 LED(发光二极管 )封装工艺工程中, 器件表面的氧化物及颗粒污染物会降低产品的可靠性, 影响产品的质量. 某 LED制造商为了保证有效清洗 LED 器件表面的氧化物及颗粒污染物, 采用伯东伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 在LED 封装前进行离子清洗.
伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 技术参数:
离子源型号 |
RFICP220 |
Discharge |
RFICP 射频 |
离子束流 |
>800 mA |
离子动能 |
100-1200 V |
栅极直径 |
20 cm Φ |
离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
流量 |
10-40 sccm |
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型压力 |
< 0.5m Torr |
长度 |
30 cm |
直径 |
41 cm |
中和器 |
LFN 2000 |
客户清洗的工作流程:
在真空状态下, 利用射频源将氩气电离成高能量的离子去撞击LED上的有机污染物及微颗粒污染物, 从而使得污染物被轰击除掉.
为了避免二次污染, 该清洗工艺, 真空度要求10-7 hPa, 客户采用的是伯东Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 1800 UC, 该型号可以倒装和抗腐蚀,
伯东 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 1800 技术参数:
分子泵型号 |
接口 DN |
抽速 l/s |
压缩比 |
最高启动压强mbar |
极限压力 |
全转速气体流量hPa l/s |
启动 |
重量 |
|||
进气 |
排气 |
氮气 |
氦气He |
氢气 H2 |
氮气 |
氮气N2 |
hPa |
氮气N2 |
min |
kg |
|
Hipace 1800 UC |
200 |
40 |
1,450 |
1,650 |
1,700 |
> 1X108 |
1.8 |
< 1X10–7 |
20 |
4 |
33 – 34 |
运行结果:
1. 从下图离子射频清洗氧化膜前后对比可以看出, KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 有效的清洗除去污染物
从使用和未使用离子清洗的拉力强度对比, 使用离子清洗后键合引线拉力强度有明显增加
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
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