某光学薄膜制造商为了提高光学太阳反射镜OSR的膜层附着力, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 在镀膜前清洗光学太阳反射镜OSR.
伯东 KRI考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:
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型号 |
RFICP 140 |
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Discharge |
RFICP 射频 |
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离子束流 |
>600 mA |
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离子动能 |
100-1200 V |
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栅极直径 |
14 cm Φ |
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离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
5-30 sccm |
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通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型压力 |
< 0.5m Torr |
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长度 |
24.6 cm |
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直径 |
24.6 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
推荐使用 KRI考夫曼射频离子源 RFICP140是因为其束流密度、能量可以精确控制, 工艺刚好符合客户要求.
其工艺流程为:
在原有的真空镀膜机上安装一台KRI考夫曼射频离子源 RFICP140, 产生离子束. 离子束清洗应用在镀膜沉积前, 利用离子束轰击基片, 溅射基片表面的污染物进行净化, 同时也对基片表面除气.
先将清洗干净的石英玻璃基片放入真空室,再将系统的真空度抽至低于 5·10-4Pa, 然后充入工作气体氩气保持 5min 后, 打开离子源进行清洗. 清洗完毕后再次将系统的真空度抽至低于 5·10-4Pa,充入氩气至 0.3Pa 进行溅射镀银.
为了保证真空室的真空度, 客户采用的是伯东Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace1800, 其参数如下：
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分子泵型号 |
界面 DN |
抽速 l/s |
压缩比 |
最高启动压强mbar |
极限压力 |
全转速气体流量hPa l/s |
启动 |
重量 |
|||
|
进气 |
排气 |
氮气 |
氦气He |
氢气 H2 |
氮气 |
氮气N2 |
hPa |
氮气N2 |
min |
kg |
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|
Hipace 1800 |
200 |
40 |
1,450 |
1,650 |
1,700 |
> 1X108 |
1.8 |
< 1X10–7 |
20 |
4 |
33 – 34 |
运行结果:
KRI考夫曼射频离子源 RFICP140可以对基片表面进行有效的清洁、活化的, 有利于改善膜层附着力
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
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