氧化物薄膜具有优越的机械、光学性能以及良好的环境稳定性, 被广泛应用于可见近红外波段制备各种低损耗光学薄膜.
某国内精密光学薄膜制造商为了获得品质良好的Al2O3 薄膜, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 FRICP380 和考夫曼离子源 KDC100 辅助溅射镀制 Al2O3 薄膜.
伯东 KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:
|
射频离子源型号 |
RFICP380 |
|
Discharge 阳极 |
射频 RFICP |
|
离子束流 |
>1500 mA |
|
离子动能 |
100-1200 V |
|
栅极直径 |
30 cm Φ |
|
离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
15-50 sccm |
|
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型压力 |
< 0.5m Torr |
|
长度 |
39 cm |
|
直径 |
59 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
工艺简介:
该制造商采用双离子辅助镀制 Al2O3 薄膜, 其中一个离子源（KRI 考夫曼射频离子源 FRICP380）主要是用于产生高能氩离子束轰击靶材, 通过动量传递使靶材原子获得足够的动能而脱离靶材表面, 射向基板, 在基板的上沉积而形成一层薄膜;
另一个辅助离子源（KRI 考夫曼离子源 KDC100）通入氧气和氩气的混合气体, 通过对生长中的薄膜的轰击, 使得薄膜进一步致密, 同时改善薄膜的化学计量比.
伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数：
|
离子源型号 |
离子源 KDC 100 |
|
Discharge |
DC 热离子 |
|
离子束流 |
>400 mA |
|
离子动能 |
100-1200 V |
|
栅极直径 |
12 cm Φ |
|
离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
2-20 sccm |
|
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型压力 |
< 0.5m Torr |
|
长度 |
23.5 cm |
|
直径 |
19.4 cm |
|
中和器 |
灯丝 |
* 可选: 可调角度的支架
其工作示意图如下:
运行结果:
1. 制备的薄膜在中红外波段具有高的折射率和低的消光系数, 光滑的表面特性和极低的表面散射耗损, 在2.7μm波段没有发现由于水吸收导致的消光系数的增大；
2. 制备的反射膜在2.7 μm反射率达到了99.63%, 接近于理论计算值；
3. 镀制的Al2O3 薄膜具有优良的环境稳定性.
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯东版权所有, 翻拷必究!
