上海某大学研究室在多层钛膜做微观结构的研究中采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 溅射沉积钛薄膜做加热电路提高器件温度,从而提高光波导器件中硅材料的折射率.
伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:
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离子源型号 |
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RFICP220 |
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Discharge |
portant;">
RFICP 射频 |
| portant;">
离子束流 |
portant;">
>800 mA |
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离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
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栅极直径 |
portant;">
20 cm Φ |
| portant;">
离子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
| portant;">
流量 |
portant;">
10-40 sccm |
| portant;">
通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
| portant;">
典型压力 |
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< 0.5m Torr |
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长度 |
portant;">
30 cm |
| portant;">
直径 |
portant;">
41 cm |
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中和器 |
portant;">
LFN 2000 |
* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量
KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.
因此, 该研究项目才采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射沉积工艺.
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
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