KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:
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射频离子源型号 |
portant;">
RFICP380 |
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Discharge 阳极 |
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射频 RFICP |
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离子束流 |
portant;">
>1500 mA |
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离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
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栅极直径 |
portant;">
30 cm Φ |
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离子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
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15-50 sccm |
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通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型压力 |
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< 0.5m Torr |
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长度 |
portant;">
39 cm |
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直径 |
portant;">
59 cm |
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中和器 |
portant;">
LFN 2000 |
红外器件金属膜需要高均匀性的原因:
红外器件几乎都要进行表面钝化和镀制金属膜, 在红外焦平面和读出电路的互连工艺中, 金属膜的厚度均匀性对于互连工艺的可靠性起着至关重要的作用, 而在背照式红外探测器的光接收面, 往往都要涂镀一层或数层介质膜, 以起到对器件进行保护和对红外辐射减反射的作用, 介质膜的厚度均匀性同样会影响探测器的滤光和接收带宽
KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.
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