Hakuto 离子蚀刻机 10IBE技术参数:
|
portant;">
基板尺寸 |
portant;">
< Ф8 X 1wfr |
|
portant;">
样品台 |
portant;">
直接冷却（水冷）0-90 度旋转 |
|
portant;">
离子源 |
portant;">
16cm |
|
portant;">
均匀性 |
portant;">
±5% for 4”Ф |
|
portant;">
硅片刻蚀率 |
portant;">
20 nm/min |
|
portant;">
温度 |
portant;">
<100 |
该制造商采用的 Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 的核心构件离子源是配伯东公司代理美国 考夫曼博士创立的KRI考夫曼公司的考夫曼离子源 KDC 160
伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 技术参数：
|
portant;">
离子源型号 |
portant;">
离子源 KDC 160 |
|
portant;">
Discharge |
portant;">
DC 热离子 |
|
portant;">
离子束流 |
portant;">
>650 mA |
|
portant;">
离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
|
portant;">
栅极直径 |
portant;">
16 cm Φ |
|
portant;">
离子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
|
portant;">
流量 |
portant;">
2-30 sccm |
|
portant;">
通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
portant;">
典型压力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
|
portant;">
长度 |
portant;">
25.2 cm |
|
portant;">
直径 |
portant;">
23.2 cm |
|
portant;">
中和器 |
portant;">
灯丝 |
* 可选: 可调角度的支架
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 配的是 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700, 可抽的真空度 < 1 · 10-7 hpa, 良好的保持刻蚀室的真空度.
其产品优势:
1.结构紧凑但功能强大的涡轮泵，用于 N2 时的最高抽速可达 685 l/s
2.最佳真空性能，最低功耗
3.集成的带 Profibus 的驱动电子装置 TC 400
4.可在任何方向安装
5.带有集成型水冷系统以保证最大气体流量
6.通过 M12 插接头的 Profibus 连接
7.广泛的配件扩展使用范围
运行结果:
1. 经过 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 对碳化硅微纳结构进行刻蚀, 以调控结构的线宽和深度, 使结构表面粗糙度由约106nm降低到11.8nm.
2. 碳化硅菲涅尔波带片展现出良好的聚焦和成像效果.
若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :
上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯东版权所有, 翻拷必究！
