离子铣，也称为离子束刻蚀。是具有强方向性等离子体的一种物理刻蚀机理，它能对小尺寸图形产生各向异性刻蚀。
离子铣有两个重要的优点：定向性和普适性。刻蚀的定向性是由于离子束中的离子是通过一个强垂直电场来加速的，反应室中的压力很低，因此原子间的碰撞几乎是完全是不可能的，结果，当原子撞击晶圆片表面时其速度是近乎完全垂直的。因为它是与化学特性无关的，因此对任何材料都可做各向异性刻蚀。
离子铣的第二个优点是它可以用来刻蚀各种不同类型的材料，包括很多化合物和合金材料，即便它们没有适当的挥发性刻蚀生成物。靶的刻蚀速率由于材料不同所引起的变化一般不会超过三倍。
离子束最小直径约10nm，离子束刻蚀的结构最小可能不会小于10nm。聚焦离子束刻蚀的束斑可达100nm以下，最少的达到10nm，获得最小线宽12nm的加工结果。相比电子与固体相互作用，离子在固体中的散射效应较小，并能以较快的直写速度进行小于50nm的刻蚀，故而聚焦离子束刻蚀是纳米加工的一种理想方法。
