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小型磁控射频溅射镀膜仪

放大字体  缩小字体 发布日期:2022-04-14 10:19:50    浏览次数:27
导读

小型磁控射频溅射镀膜仪是一款小型台式单靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜技术参数输入电源220VAC50/60Hz,单相800W

小型磁控射频溅射镀膜仪是一款小型台式单靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。  
我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜  
技术参数  
输入电源  
220VAC50/60Hz,单相  
800W(包括真空泵)  
等离子源  
一个100W,13.5MHz的射频电源安装在移动柜内  
配有一13.5MHz,100W的射频电源(采用手动匹配)  
可选配300W射频电源(自动匹配)  
注意:100W手动调节的RF(射频)电源价格较低,但是每一次对于不同的靶材,都需要手动设置参数才能产生等离子体,比较耗费时间。300W自动匹配的RF(射频)电源,价格较昂贵,但比较节约时间。  
(点击图片查看详细资料)  
磁控溅射头  
一个1英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接  
靶材尺寸:直径为25.4mm,zui大厚度3mm  
一个快速挡板安装在法兰上(手动操作,见图左3)  
溅射头所需冷却水:流速10ml/min(仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机)  
同时可选配2英寸溅射头  
选配2英寸溅射头靶材尺寸:直径为50.8mm,zui大厚度6mm  
真空腔体  
真空腔体:160mmODx150mmIDx250mmH,采用高纯石英制作  
密封法兰:直径为165mm.采用金属铝制作,采用硅胶密封圈密封  
一个不锈钢网罩住整个石英腔体,以屏蔽等离子体  
真空度:<1.0*10-2Torr(采用双极旋片真空泵)  
<5*10-5torr(采涡旋分子泵)  
载样台  
载样台可旋转(为了制膜更加均匀)并可加热  
载样台尺寸:直径50mm(zui大可放置2英寸的基片)  
旋转速度:1-20rpm  
样品台的zui高加热温度为700℃(短期使用,恒温不超过1小时),长期使用温度500℃  
控温精度+/-10℃
本产品信息由中美合资合肥科晶材料技术有限公司整理发布,更多关于小型磁控射频溅射镀膜仪的信息请访问:
http://www.kjmti.com.cn/SonList-1290263.html 
https://www.chem17.com/st152911/product_24001323.html 
 
(文/小编)
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