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2020-12-12 09:22 30行业新闻
一、 组成:该漆是由环氧面漆、增塑剂、混合溶剂调配而成成分一,环氧固化剂为成分二。两组分按规定比例分装供应。二、 特性与用途:该漆具有良好的附着力,…
2020-12-12 09:21 27行业新闻
一、产品说明隔热防腐漆(凉凉胶) 储油罐隔热防腐涂料以改性bingxi酸为主要成膜物质,配以特种高分子材料和隔热材料而成的防腐产品,具有很好的耐酸、碱、无…
2020-12-12 09:20 46行业新闻
冷喷锌主要是有无机硅氧烷树脂及高纯度进口锌组成对的长效双重作用的新型钢结构重防腐材料。具有好的耐候性和防腐性,是目前最具有发展前途的高性能防腐涂料…
2020-12-12 09:16 37行业新闻
一、氯化橡胶面漆性能;具有良好的耐热性、耐酸碱性及耐机械物理性能;具有优的低温施工性能,可在-20℃~50℃环境中施工;+漆膜对钢铁有良好的附着力;漆膜层…
2020-12-12 09:14 37行业新闻
组成:该漆是由特种合成橡胶--氯磺化聚乙烯树脂与各种颜料、填料、有机溶剂等构成的成分一和各种改性树脂、硫化剂等构成的成分二组成。两组份按规定比例分装…
2020-12-12 09:13 43行业新闻
组成:该漆由环氧树脂、片状云铁颜料、防沉剂、专用固化剂为成分二,两组分按规定比例分装配套供应。二、用途:该漆广泛用于水下钢结构和水泥构件的防腐防渗…
2020-12-12 09:11 38行业新闻
一、组成:该漆为双组份自干型漆。成分一为含羟基丙烯酸树酯色浆,成分二为异氰酸酯加成物固化剂。二、特性及用途:该产品对不同材质均有良好的附着力,且具…
2020-12-12 09:10 36行业新闻
【主要性能】 环氧云铁中间漆是一种高性能屏蔽承上启下连接的中间涂层,其含有较高颜料体积浓度的鳞片状颜料,成膜后颜料成份能平行定向重叠排列,类似高排列…
2020-12-12 09:07 36行业新闻
一、组成:由环氧树脂、xinfen浆与固化剂等调制而成的双组份涂料。二、特点:该漆防锈性能很强,具有阴极保护作用,能渗入焊接缝隙处,耐溶剂腐蚀,在阳光下…
2020-12-11 16:02 42行业新闻
Ф4 inch X 6片 Ф3 inch X 8片 Ф4 inch X 6片 Ф8 inch X 1片样品台20cm考夫曼离子源均匀性20 nm/min温度Hakuto离子蚀刻机20IBE-C的核心构件离子源采用的是…
2020-12-11 16:01 49行业新闻
Hakuto全自动离子刻蚀机MEL3100技术参数:MEL3100Wafer size1 waferCassette No.1pc.Throughput8×10-5 (Pa) *2Pressure Process10 (nm/min)@SiO2 *3Etching U…
2020-12-11 15:58 49行业新闻
某光学器件制造商Hakuto离子蚀刻机20IBE-J精密加工通过蚀刻工艺提高的.技术参数片基片尺寸Φ4 inch X 12Φ5 inch X 10Φ6 inch X 8均匀性±5%硅片刻蚀率20 nm…
2020-12-11 15:56 50行业新闻
某芯片设计机构研究部门采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 用于芯片去层.Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 技术规格:真空腔 1 set, 主体不锈钢,水冷基片尺寸 1 set,…
2020-12-11 15:33 90行业新闻
很多都在追赶时尚、潮流,潮流在很多人眼中就意味着年轻。有人说时尚是个圈,周而复始,还会回到以前。我们生活中,很多人喜欢富有中国元素、文化符号的产品…
2020-12-11 15:31 65行业新闻
冬季来临,机床设备开始做好维护保养工作。由于机床的运动、磨损、内部应力等物理、化学变化过程,必然会发生技术状况的不断变化,以及一些不可避免的不正常…
2020-12-11 15:29 57行业新闻
目前在机床加工行业中,要求加工精度高、批量加工速度快导致生产线体自动化程度。要根据加工零件的形状及加工工艺的不同,来采用不同的手爪抓取系统。随着人…
2020-12-11 15:27 48行业新闻
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J技术参数基片尺寸±5%硅片刻蚀率直接冷却,水冷离子源离子源型号RFICP 射频离子束流100-1200 V栅极直径聚焦, 平行, 散射流量Ar, Kr,…
2020-12-11 15:25 43行业新闻
Hakuto离子蚀刻机10IBE技术参数:基板尺寸直接冷却(水冷)0-90度旋转16cm考夫曼离子源均匀性硅片刻蚀率100Hakuto离子刻蚀机10IBE离子源是配伯东公司代理美国…
2020-12-11 15:23 35行业新闻
Hakuto日本原装设计制造离子刻蚀机IBE,提供微米级刻蚀,满足所有材料的刻蚀,即使对磁性材料,金铜镍银铂等金属及复合半导体材料,这些难刻蚀的材料也能进行微米…
2020-12-11 15:22 33行业新闻
某半导体公司为了去除晶圆反应表面产生的反应产物, 进而提高反应效率, 同时提高晶圆的均匀度, 采用Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C用于半导体晶圆刻蚀.Hakuto 离子…
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